평판 디스플레이, 스테인레스 스틸 등 유리, 금속을 원료로 하는 산업의 경우 생산과정에서 고농도의 불산(HF) 및 질산 (HNO₃)을 산세액(Acid rinse solution)으로 사용하여 필연적으로 산세폐수가 발생하게 된다. 따라서 발생폐수는 고농도의 불소이온(F^- ) 및 질산성 질소(NO₃^--N)를 함유하게 된다 (Bücker and Acker, 2012; Schmidt et al., 2007). 이러한 폐수를 처리하기 위하여 전처리로 소석회(Ca(OH)₂)와 같은 칼슘 화합물을 첨가해 CaF₂ 형태로 결합시켜 처리하는 화학적 처리를 통한 응집·침전 방법으로 불소 이온을 제거하며(Aldaco et al., 2007; Grzmil and Wronkowski, 2006; Kim and Kim; 2007) 후처리로 생물학적 처리(Denitrification process)를 통하여 질산성질소를 제거하고 있다(Fernández-Nava et al., 2008). 그러나 화학적 처리 단계에서 불완전하게 처리된 불소 화합물(HF)이 생물학적 공정 내로 유입될 경우 미생물의 대사 작용에 영향을 미칠 수 있으며(Peng et al., 2013) 수계로 방류되어 인체에 장기간 노출될 경우 치아 반점이나 뼈 질환을 유발할 수 있다 (Drouiche et al., 2008).

이러한 불소이온을 화학적 처리로 제거하는 과정에서 칼슘이온이 과량 주입될 경우 고농도 칼슘이온이 생물학적처리 공정으로 유입되며 van Langerak et al. (1998)과 van Langerak et al. (2000)의 연구에서는 생물학적 처리 공정 내 고농도의 칼슘이온 주입시 광범위한 침전 문제를 유발하거나 미생물 활성이 저해된다고 보고하고 있다. 또한 Choi (2014)의 연구에서는 칼슘이온이 미생물 표면 PSs (Polysaccharide)에 흡착되어 기질 흡착의 방해 및 미생물 활성도 저하를 유발하여 질산성 질소의 탈질효율이 저하된다고 보고하고 있다. 이에 따라 앞서 언급한 생물학적 처리 공정 내 불소 화합물의 유입, 칼슘이온 축적에 의한 미생물의 영향으로 질산성 질소의 탈질이 제대로 이루어지지 않아 미처리된 질소 화합물이 배출될 경우 수계의 부영양화를 유발할 수 있으며, 특히 질산성 질소의 경우 발암물질 중 하나인 니트로사민의 형태로 구성될 수 있다(Forman et al., 1985; Hu et al., 1999; Ono et al., 2000). 그러나 산세액이 발생하는 산세공정 폐수처리와 관련된 기존 연구를 살펴보면 불소이온 제거 연구(An et al., 2009; Choi et al., 2012; Grzmil and Wronkowski, 2006; Kim and Kim, 2007; Lee and Kim, 2007)에 초점이 맞춰져 있으며 칼슘이온이 생물학적 탈질에 미치는 영향에 관한 정량적인 연구 및 질산성 질소의 효율적인 생물학적 처리방안에 관한 연구는 미흡한 실정이다. 따라서 본 연구에서는 산세공정에서 발생되는 산세폐수 처리를 위해 연속회분식 반응조(Sequencing Batch Reactor, SBR)를 적용하였으며 칼슘이온의 제어에 따른 질산성 질소의 효율적인 처리에 목적을 두었다.

본 연구에서는 산세폐수의 고농도 질산성 질소의 제거를 위해 기존 재래식 교반 반응조에 비하여 적은 면적을 차지하며, 고농도 질산성 질소의 탈질에 효율적인 연속회분식 반응조를 선택하였다(Kim et al., 2006; Oh et al., 2002; Veydovec et al., 1994). 논리적인 실험 절차에 의거하여 실험실 규모의 반응기를 운전하였으며 연구수행을 위한 구체적인 연구내용은 다음과 같다. 첫째, 산세폐수 내 칼슘이온의 주입조건에 따른 고농도 질산성 질소의 탈질 반응 저해 정도를 평가하였다. 둘째, 칼슘이온 주입조건에 따른 미생물 표면 특성을 분석하였다. 셋째, 칼슘이온 주입조건에 따른 슬러지 침전성 분석(SVI)을 실시하였다.

본 연구에서 대상으로 하는 산세폐수는 E사의 LCD 식각공정에서 발생하는 산세폐수를 대상으로 하였다. E사의 경우 불소 및 각종 중금속은 화학적 전처리공정에서 처리되고 있었으며 고농도 질산성 질소의 경우 후처리공정으로 적용하고 있는 생물학적 처리공정을 통하여 처리하고 있었다. 실험실 규모의 실험에서는 화학적 전처리공정을 거친 1차 처리수의 고농도 질산성 질소 성상을 분석한 후 원수 성상을 결정하였으며 합성폐수를 제조하여 사용하였다. 이에 따라 탈질에 요구되는 유기탄소원은 CH₃OH (SAMCHUN Chemical, Korea), 질산성 질소는 KNO₃ (SAMCHUN Chemical, Korea), 칼슘이온은 Ca(OH)₂ (SAMCHUN Chemical, Korea)를 이용하여 제조하였다. 실험에 사용된 슬러지의 경우 A 하수처리장에서 채취하였으며 합성폐수를 주기적으로 주입· 반응시켜 탈질 미생물을 배양하였다. Table 1에는 E사의 산세공정 1차 처리수의 성상을 나타냈다.

본 연구에 사용된 반응기의 구성 및 형태는 Fig. 1에 나타내었으며, 실험실 규모 SBR 반응기를 이용하여 조건별 실험에 따른 질산성 질소의 제거효율을 평가하였다. 반응기의 체적은 6 L로 설계하였으며, 채수를 위한 샘플링 포트를 설치하였다. 반응기는 24 hr (1 cycle) 간격으로 운전 (1 cycle operation - Fill; 0.5 hr, React; 22 hr, Settle; 1 hr, Draw; 0.5 hr)되며 반응기간 동안에는 탈질 반응을 위한 무산소 (Anoxic) 조건만을 유지하였다. 반응기의 전체 반응조작은 전체 시스템을 통제하는 프로그램 가능 논리 제어 장치 (Programmable Logic Controller, PLC)로 수행하였다. 또한 탈질 반응은 알칼리를 생성하면서 반응조 내의 pH를 증가시키기 때문에 원활한 탈질 반응 유도를 위하여 무산소 반응기간 동안 탈질 반응에 따른 pH를 일정한 범위 (7.0~7.2)로 유지하였다. pH 조절은 pH meter와 PLC를 연결하여 탈질 반응 동안 pH가 7.2 이상 상승시 정량펌프가 작동하여 2N의 HCl이 주입되도록 설정하였다. 본 연구에서의 실험실 규모 실험 조건을 Table 2, 3에 나타냈다.

칼슘이온 주입조건에 따른 고농도 질산성 질소의 탈질 반응 저해 평가를 위해 칼슘이온 주입량을 0, 200, 400, 600, 800 및 1,000 mg/L 까지 변화시키며 실험을 진행하였다. 조건별 실험에 따른 탈질 반응의 비교를 위하여 질산성 질소의 환원율을 MLVSS 농도로 표준화한 비탈질율(Specific Denitrification Rate, SDNR)을 이용하였다(Fernández-Nava et al., 2008; Ha, 2001; Kim et al., 2006; Lee, 2010). 질산성 질소의 분석을 위한 시료 채취의 경우 무산소 조건에서 2 hr 간격으로 시료를 채취하여 분석을 실시하였다. 슬러지 침전성 평가를 위한 분석의 경우, 슬러지 침전 특성의 정량적인 분석을 위해 이용되어지는 SVI (Sludge Volume Index, SVI)를 이용하였다(Hyun, 2009; Lee et al., 2009; Lee, 2001; Li et al., 2014). 또한 슬러지 MLSS, MLVSS, 미생물 표면 분석 및 슬러지 침전성 분석을 위한 시료 채취의 경우 칼슘이온의 주입 조건에 따른 무산소 반응의 종료 시점에서 채취하여 분석을 실시하였다.

시료는 질소(NO₃^--N, NO₂^--N), 고형물(MLSS, MLVSS) 및 SVI를 분석하였으며, 시료의 항목별 분석 방법은 Standard methods (APHA, 2005) 및 수질오염공정시험기준(MOE, 2011)에 준하여 분석하였다.

칼슘이온 주입에 따른 미생물의 표면특성은 105°C 온도에서 2 hr 동안 건조한 슬러지를 Scanning Electron Microscope (SEM) 분석 장비를 이용하여 분석하였다. SEM 분석은 Hitachi 사의 S-4200를 사용하였다. 또한 슬러지 Isolation을 실시한 후 Transmission electron microscope (TEM) 분석 장비를 이용하여 미생물 표면 분석을 실시하였으며 TEM 분석은 JEOL 사의 JEM1010을 사용하였다(Nagasaki et al., 2004).

Fig. 2에는 칼슘 이온 주입 농도에 따른 질산성 질소 및 아질산성 질소의 탈질 거동을 나타냈으며 Table 4에 칼슘이온 주입 농도에 따른 SDNR 값을 비교하였다. 분석결과 칼슘이온 주입량 0, 200, 400, 600, 800 및 1,000 mg/L에서의 SDNR 값은 각각 0.187, 0.196, 0.213, 0.181, 0.174 및 0.168 mg NO₃^--N/mg MLVSS· d로 나타났으며 아질산성 질소의 축적 경향은 나타나지 않았다. Ha (2001)의 활성슬러지 탈질 반응에 대한 불소이온 저해 영향에 관한 연구에서는 불소이온을 300 mg/L 이상 주입시 탈질 반응을 저해하며 아질산성 질소의 축적 경향이 나타난다고 보고하고 있다. 또한 이러한 원인을 불소이온이 HF의 형태로 미 생물 세포막을 통과하고 세포질 안에서 F^-와 H⁺로 해리됨으로써 세포 내 효소들이 최적 조건이 아닌 pH 상태에 노출되어 자연적으로 미생물 대사활동이 저해되기 때문이라고 분석하고 있다. 그러나 본 연구에서는 칼슘이온 주입시 아질산성 질소의 축적 경향은 나타나지 않았다. 따라서 칼슘이온은 불소이온과는 달리 미생물에 영향을 미치지 않는 사실을 확인할 수 있었으며 이는 Kim et al. (2006)의 연구결과와도 일치하는 경향을 나타냈다. Kim (2002)의 산세폐수내 고농도 질산성 질소 제거에 관한 연구에서는 700 mg/L 이상의 고농도 칼슘 이온 주입시 탈질 반응을 수행한 결과 아질산성 질소의 축적은 일어나지 않으며 탈질 반응시 칼슘 이온의 경우 미생물에 독성으로 작용하지 않는다고 보고하고 있다.

또한 Oh et al. (2002)의 칼슘 이온 농도에 따른 탈질 반응 변화에 관한 연구결과에 의하면 칼슘 이온을 15에서 1,500 mg/L 까지 주입하여도 아질산성 질소의 축적은 일어나지 않는다고 보고하고 있으며 Fernández-Nava et al. (2008)의 고농도 질산성 질소 및 칼슘 이온에 따른 탈질 반응 연구에서 또한 칼슘 이온을 50에서 550 mg/L 까지 주입하여도 아질산성 질소의 축적 경향은 나타나지 않는다고 보고하고 있으며 본 연구결과와 유사한 경향을 나타내고 있었다.

칼슘이온 주입에 따른 SDNR의 경우 칼슘이온 미주입시 0.187 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d를 나타냈으며 200, 400 mg/L 주입시 각각 0.196, 0,213 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d으로 나타나 400 mg/L 까지 질산성 질소의 탈질 반응에 영향을 미치지 않는 것으로 나타났으며 오히려 증가하는 경향을 나타냈다. 그러나 600, 800, 1,000 mg/L 주입시 SDNR 값은 각각 0.181, 0.174, 0.168 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d로 나타났으며 미생물의 영향에 의한 아질산성 질소의 축적을 유발하지는 않지만 600 mg/L의 주입농도부터 질산성 질소의 탈질 반응을 지연시키는 것으로 나타났다.

Oh et al. (2002)의 칼슘이온 농도에 따른 탈질 반응 변화에 관한 연구결과에 따르면 칼슘이온의 농도별 주입 조건(15, 200, 500, 800, 1,200 및 1,500 mg/L)에 따른 질산성 질소의 탈질 반응은 500 mg/L까지는 SDNR 값이 0.218에서 0.256 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d로 증가하다가 800 mg/L부터 1,500 mg/L까지는 0.194에서 0.165 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d로 감소하는 경향을 나타내 본 연구와 유사한 결과를 나타내고 있었다. 또한 이에 대한 원인을 첨가된 칼슘이온에 의해 표면전하가 감소하여 탈질 미생물에 의해 섭취되어야 하는 질산성 질소(음이온)의 물질이동(mass transfer)을 용이하게 하여 500 mg/L의 주입농도까지는 탈질 반응이 증대되는 것으로 분석하고 있으며 500 mg/L 이상의 주입농도에서는 고농도 칼슘으로 유발된 높은 이온강도에 의해 미생물이 탈착되거나 콜로이드 안정성 교란 (Keiding and Neilson, 1997; Wilèn et al., 2000; Zita and Hermansen, 1994), 미생물 플록 표면에 칼슘이온 흡착 증대에 따른 물질이동을 방해(Bruus et al., 1992; Urbain et al., 1993)하여 탈질 반응이 저해되는 것으로 분석하고 있다. 또한 Fernández-Nava et al. (2008)의 연구결과에 따르면 칼슘 이온의 농도별 주입 조건 (50, 150, 450 및 550 mg/L)에 따른 탈질 반응은 150 mg/L까지는 SDNR 값이 0.506에서 0.547 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d로 증가하다가 450 mg/L부터 550 mg/L까지는 0.372에서 0.264 mg NO₃^--N/mg MLVSS·d로 감소하는 경향을 나타내 본 연구와 유사한 결과를 나타내고 있었다. 또한 이에 대한 원인을 미생물 성장속도(growth rate)와 관련하여 분석(MLVSS)하였는데 칼슘이온 150 mg/L 주입시 미생물 성장 속도가 최적이라 하였으며 50에서 150 mg/L까지는 1.4배의 성장률을 나타낸다고 보고하고 있다. 그러나 칼슘이온 주입농도가 550 mg/L까지 증가하면 성장속도는 8배가 감소한다고 하였으며 이는 기질 섭취의 저해에 따른 전자수용체(electron acceptors)인 질산성 질소의 부족에 기인한 것으로 분석하고 있다.

Table 5에는 메탄올을 탄소원으로 이용한 탈질 반응시의 SDNR 값을 조사한 기존의 연구와 본 연구결과를 비교한 결과를 나타냈다. 비교 결과, 기존의 연구에 비하여 본 연구에서의 칼슘이온 미주입시 SDNR 값은 기존 연구에 비해 낮은 것으로 나타났으며 이러한 원인은 초기 질산성 질소 및 MLVSS 농도의 차이에 기인한 것으로 사료된다.

칼슘이온 주입에 따른 질산성 질소의 탈질 반응에 대한 결과를 종합하면 칼슘이온의 경우 미생물에 독성으로 작용하지는 않지만 주입농도가 일정 농도 이상 증가할 경우 탈질 반응을 지연시키는 것을 확인할 수 있었으며 이러한 원인은 일반적으로 음전하를 띠는 미생물 표면에 칼슘이온이 흡착되어 기질 흡착 저해 및 원활한 물질이동을 방해하기 때문인 것으로 사료된다. 또한 본 연구에서 도출한 질산성질소의 탈질 반응 지연 한계 농도의 경우 600 mg/L로 나타났다. 따라서 산세폐수 내 고농도 불소이온 처리를 위한 칼슘화합물의 주입시 후단 질산성 질소 제거를 위한 생물학적 탈질 반응을 지연시킬 수 있는 영향 농도를 고려한 주입이 필요하며 생물학적 처리시설로 유입되는 칼슘이온의 농도가 600 mg/L 이하일 경우 질산성 질소의 원활한 탈질 반응이 가능할 것으로 판단된다.

Fig. 4에는 TEM을 이용하여 칼슘이온 주입 농도에 따른 미생물의 표면 특성을 측정 200 nm 사이즈로 이미지화 하였다. 각 조건별 TEM 측정결과는 칼슘이온 미주입시에 비하여 칼슘이온 주입시 미생물 표면에 얇은 막이 형성되는 것이 관찰되었으며 칼슘이온 주입량이 증가함에 따라 형성된 막의 두께가 점차 증가하는 것을 관찰할 수 있었다. 이러한 미생물 표면에 형성된 막은 칼슘이온이 미생물 표면에 흡착(bio-sorption)되어 형성된 것으로 추정된다. 기존 연구에 의하면 미생물 표면의 음전하 작용기에서의 양이온 부착, 미생물 대사 작용을 통한 세포 내로의 금속 축적, 체외고분자 물질(Extracellular Polymeric Substances, EPS) 및 sulfide와 phosphate 같은 미생물 내 음이온과의 반응에 따라 침전물 형성, 산화, 환원 및 메틸화 과정이 진행되며, bio-transformation 및 미생물 종류에 따라 양이온을 선택적으로 흡착이 가능하다고 보고되고 있으며(Choi, 2014; Pujol and Canler, 1992; Rensink and Donker, 1991; Valls and de Lorenzo, 2002) TEM 관찰결과 또한 이러한 미생물의 표면흡착(칼슘이온) 결과임을 나타내고 있는 것으로 사료된다.

또한 Fig. 5에는 SEM을 이용하여 칼슘이온 주입 농도에 따른 미생물의 표면 특성을 측정 5 μm 사이즈로 이미지화 하였다. 각 조건별 SEM 측정결과 칼슘이온 주입량이 증가함에 따라 미생물 표면에 결정물 형태가 관찰됨을 확인할 수 있었으며 TEM 분석에서와 마찬가지로 결정물은 칼슘이온으로 추정된다. 기존 연구에 의하면 일반 미생물 표면의 Functional group은 carboxyl, phosphonate 및 amine group 등이 보고되고 있으며(Cai et al., 2009) 칼슘이온이 이러한 Functional group과의 결합을 통하여 미생물 표면에 흡착될 경우 결정형태는 CaO 및 CaCO₃의 형태로 구성된다고 보고되고 있다(Choi, 2014). 또한 칼슘이온은 슬러지 형성에 유리한 조건을 제공하며 생물막의 고정화가 활발하게 진행하는데 영향을 주는 것으로 알려져 있다(Huang and Pinder, 1995). 이는 일반적으로 미생물의 표면과 체외고분자물질이 음이온을 띠게 되는데, 유입되는 칼슘이온이 이들과 활발하게 결합하여 가교 역할을 하게 된다. 그리고 세포와 세포사이의 점착성을 높이고, 미생물이 응집하기 위해 중요한 역할을 하는 것으로 알려진 다당류의 생산을 증가시킴으로써 슬러지의 생성을 촉진시키고, 입자가 커지는데 중요한 역할을 한다(Jiang et al., 2003). 따라서 미생물의 칼슘이온 표면 흡착 현상의 경우 칼슘이온에 의한 미생물 가교 역할 및 점착성 증가에 의한 결과로 사료된다.

Table 6 및 Fig. 6에 칼슘이온 주입 농도에 따른 슬러지 SVI의 거동을 나타냈다. 분석결과 칼슘이온 주입량 0, 200, 400, 600, 800 및 1,000 mg/L에서의 SVI 값은 각각 106.9, 91.1, 67.6, 62.2, 50.7 및 33.6 mL/g으로 나타나 칼슘이온의 주입량이 증가할수록 SVI 값은 감소하는 경향을 나타냈다. 일반적으로 활성슬러지의 SVI가 100 mL/g 이하일 경우 침전성이 매우 양호하며 300 mL/g 이상인 경우 침전성이 매우 불량한 것으로 평가한다(Lee et al., 2009). 본 연구에서 칼슘이온 미주입시 분석된 SVI의 경우 106.9 mL/g로 고농도인 MLSS (8,040 mg/L)를 고려하면 다소 양호한 상태를 나타내고 있었다.

Higgins and Novak (1997)의 활성슬러지의 침전 및 탈수에 양이온이 미치는 영향에 관한 연구에서는 활성슬러지에 칼슘이온의 조건별 주입시 미주입한 조건에 비하여 슬러지의 침전성 및 탈수 효율이 급격하게 향상된다고 보고하고 있다. 또한 Lee et al. (2009)의 슬러지 침전특성에 관한 연구에서는 국내 하수처리장 8개소를 대상으로 슬러지 SVI를 분석한 결과 100~300 mL/g의 범위로 나타났으며 슬러지 침전속도의 경우 슬러지의 물리적 특성이 생물학적·화학적 특성에 의한 영향보다 크게 작용된다고 보고하고 있다. Bruus et al. (1992)의 슬러지 탈수에 의한 활성슬러지 플록의 안정성에 관한 연구에서는 칼슘이온의 미생물 흡착에 의해 SVI가 감소한다고 보고하고 있다.

본 연구에서 도출된 결과 또한 기존 연구와 유사한 경향을 나타내고 있었으며 칼슘이온의 주입량 증가에 따른 SVI의 감소 결과는 앞서 분석한 미생물 표면에 칼슘이온이 흡착되어 슬러지의 비중이 증가된 것으로 추론할 수 있다. Kim et al. (2006)의 산세폐수의 고농도 질산성 질소 처리에 관한 연구에서는 칼슘이온이 약산성 폐수 내에서 용존 상태로 존재하다가 탈질 반응에 의하여 pH가 상승함에 따라 수산화이온과의 결합에 의해 CaOH₂의 침전물이 형성되어 슬러지 비중이 증가되며 이에 따른 슬러지 침전성이 향상된다고 보고하고 있으며 본 연구와 유사한 결과를 나타냈다. 또한 본 연구에서 칼슘이온 주입 조건에 따른 MLVSS/MLSS의 결과를 살펴보면 칼슘이온 주입량 0, 200, 400, 600, 800 및 1,000 mg/L에서 각각 74.8, 74.3, 73.4, 72.4, 70.5 및 69.2%로 감소하는 경향을 나타냈으며 이러한 결과 또한 칼슘이온의 미생물 표면 흡착과 CaOH₂의 침전물 형성으로 인한 MLSS가 증가하기 때문인 것으로 판단된다.

칼슘이온 주입에 따른 슬러지 침전성 분석에 대한 결과를 종합하면 칼슘이온 주입량이 증가함에 따라 슬러지 침전성 또한 향상되는 것을 확인할 수 있었으며 이러한 원인은 칼슘이온의 미생물 표면 흡착에 의한 비중 증가 및 CaOH₂ 침전물 형성에 기인한 것으로 사료된다. 따라서 앞서 분석한 칼슘이온 주입에 따른 탈질 반응 평가 결과와 종합하면 산세폐수의 생물학적 처리시 칼슘이온의 제어는 원활한 탈질 반응을 유도할 수 있으며 슬러지 침전성 또한 향상시킬 수 있는 긍정적인 역할을 수행하지만 고농도 칼슘이온 존재시에는 슬러지 침전성은 더욱 향상될 수 있지만 탈질 반응의 저해를 유발할 수 있으므로 안정적인 질산성 질소의 처리를 위해서는 칼슘이온의 제어가 필요할 것으로 사료된다. 또한 칼슘이온 제어를 통한 슬러지 침전성이 향상된다는 점은 침전시간의 단축을 의미하며 이는 곧 SBR 공정 운영시 침전시간 단축을 통하여 반응시간을 증대시키는 유동적인 운전 또한 가능할 것으로 판단된다.

본 연구의 목적은 산세공정에서 발생되는 산세폐수 내 함유된 고농도 질산성 질소의 처리를 위해 위해 연속회분식 반응기를 적용함에 있어 칼슘이온의 주입 조건에 따른 탈질 효율 및 슬러지 침전성 평가를 통하여 칼슘이온의 제어에 따른 질산성 질소의 효율적인 처리에 목적을 두었다. 이에 따라 실험실 규모의 실험을 수행하였으며, 탈질 반응평가, 미생물 표면 분석, 슬러지 침전성 평가를 실시하였다. 본 연구를 통해 다음과 같은 결론을 도출하였다.

1) 칼슘이온 400 mg/L 주입량까지 SDNR이 증가하는 원인은 음전하를 띄고 있는 미생물이 칼슘이온에 의해 표면전하가 감소하여 물질이동이 용이해지기 때문인 것으로 판단된다. 또한 600 mg/L 이상 주입시에는 높은 이온강도에 의한 미생물 탈착, 콜로이드 안정성 교란 및 다량의 칼슘이온의 미생물 표면 흡착으로 원활한 물질이동이 방해되어 SDNR이 감소하는 것으로 사료된다.

2) 칼슘이온 주입 조건에 따른 미생물 표면 분석 결과, 탈질 반응 결과에서 고찰한 미생물 표면 칼슘이온 흡착에 관한 흡착형태를 직관적으로 관찰할 수 있었으며 결정형태는 CaO 및 CaCO3로 사료된다. 또한 이러한 미생물의 표면 흡착 현상은 칼슘이온에 의한 미생물 가교 역할 및 점착성 증가에 의한 결과로 사료된다.

3) 슬러지 침전성 분석결과, 칼슘이온 주입량이 증가할수록 침전성 또한 지속적으로 증가하는 것을 확인할 수 있었다. 그러나 고농도 질산성 질소의 처리를 위해서는 칼슘이온의 제어가 필요하며 생물학적 처리공정 내 칼슘이온을 600 mg/L 이하로 유지하는 것이 바람직할 것으로 사료된다.

4) 고농도 칼슘이온은 질산성 질소의 생물학적 처리시 탈질반응을 지연시키는 원인물질임을 확인하였으며 산세폐수의 칼슘이온 제어에 따른 질산성 질소 처리시 원활한 탈질 유도가 가능하며 침전시간 단축을 통하여 반응시간을 증대시키는 유동적인 운전 또한 가능할 것으로 판단된다.

5) 향후 칼슘이온의 주입농도 및 슬러지 MLSS 농도의 세분화와 미생물의 활성도와 SDNR에 영향을 주는 C/N비, C/N/P비, F/M비 등 다양한 운영인자 변경에 따른 산세폐수의 탈질 효율 및 슬러지 침전성 분석을 위한 추가적인 연구가 필요할 것으로 사료된다.